ALD前驱体应用

原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition，简称ALD)是一种在纳米尺度上进行薄膜沉积的先进技术。通过将物质以单原子形式一层一层的镀在基底表面，拥有优异的三维共形性、大面积成膜的均匀性和精确控制膜厚等特点。

ALD在能源领域应用

2009年，Miyaska课题组将钙钛矿材料MAPbI3用作燃料敏化太阳能电池的光伏活性层，正式开启了钙钛矿太阳能电池的新纪元。ALD凭借其均匀成膜性、精准控制厚度和保形性等多种优势，在光伏领域中发挥着重要作用。除此之外，ALD技术还可用于锂电池薄膜涂层，提高电池性能。

ALD在半导体领域应用

随着泛半导体行业的发展，对微型化和集成化要求越来越高，尺寸缩小至亚微米和纳米量级，ALD作为一种高精度薄膜沉积技术，可用于晶体管栅极电介质层(High-k材料)、金属栅电极、有机发光显示器涂层、铜互联扩散阻挡层、DRAM电介质层、微流体和MEMS涂层、传感器等众多领域。

ALD在光学领域应用

   由于ALD具有的三维共形沉积和大面积均匀性特点，已成功应用于高质量光学薄膜、增透膜、折射率可调的光学薄膜、波状多层膜，改善了光子晶体的光学性质和可控性，增加了光子晶体在未来光学器件中的应用潜力。

以上图片均来自参考文献

参考文献：

1) Science. 2022, 376, 762–767

2) Physics & High Technology. 2012, 37-41

3) ACS Energy Lett. 2019, 4, 908−925

4) Adv. Energy Mater. 2019, 9, 1900626

5) 廖荣, 康唐飞, 邓世杰等. 原子层沉积技术的应用现状及发展前景. 2021, 10, 5

6) 刘春艳，等. 利用原子层沉积技术实现有机电致发光器件的薄膜封装. 2022, 8, 1281

7) Coatings. 2017, 7, 118